Đã có nhiều quan tâm trong việc xác định các cơ chế chi phối sự gia tăng độ dày của lớp oxit theo thời gian. Một số yếu tố quan trọng là thể tích oxit so với thể tích của kim loại gốc, cơ chế khuếch tán oxy qua oxit kim loại đến kim loại gốc và tiềm năng hóa học tương đối của oxit. Ranh giới giữa các hạt vi mô, nếu lớp oxit là tinh thể, tạo thành một con đường quan trọng để oxy tiếp cận với kim loại không bị oxy hóa bên dưới. Vì lý do này, lớp phủ oxit thủy tinh - không có ranh giới hạt - có thể làm chậm quá trình oxy hóa.[6] Các điều kiện cần thiết (nhưng không đủ) cho sự thụ động được ghi lại trong sơ đồ Pour Bạchx. Một số chất ức chế ăn mòngiúp hình thành một lớp thụ động trên bề mặt kim loại mà chúng được áp dụng. Một số hợp chất, hòa tan trong dung dịch (cromat, molybdat) tạo thành màng không phản ứng và độ hòa tan thấp trên bề mặt kim loại.